高分子光敏材料

发表时间:2017-4-12 1:39:34 文章来源:广德教育网 www.codmst.com

高分子光敏材料

光功能高分子材料,是指能够对光进行透射、吸收、储存、转换的一类高分子材料。目前,这一类材料已有很多,主要包括光导材料、光记录材料、光加工材料、光学用塑料(如塑料透镜、接触眼镜等)、光转换系统材料、光显示用材料、光导电用材料、光合作用材料等。光功能高分子材料在整个社会材料对光的透射,可以制成品种繁多的线性光学材料,像普通的安全玻璃、各种透镜、棱镜等;利用高分子材料曲线传播特性,又可以开发出非线性光学元件,如塑料光导纤维、塑料石英复合光导纤维等;而先进的信息储存元件兴盘的基本材料就是高性能的有机玻璃和聚碳酸脂。此外,利用高分子材料的光化学反应,可以开发出在电子工业和印刷工业上得到广泛使用的感光树脂、光固化涂料及粘合剂;利用高分子材料的能量转换特性,可制成光导电材料和光致变色材料;利用某些高分子材料的折光率随机械应力而变化的特性,可开发出光弹材料,用于研究力结构材料内部的应力分布等。

在光作用下能迅速发生化学和物理变化的高分子,或者通过高分子或小分子上光敏官能团所引起的光化学反应(如聚合、二聚、异构化和光解等)和相应的物理性质(如溶解度、颜色和导电性等)变化而获得的高分子材料。目前,光敏高分子的合成已成为精细高分子合成的一个重要方面。

按高分子合成目的不同分类可分为:一、在侧链或主链上含有光敏官能团的高分子;二、由二元或多元光敏官能团构成的交联剂;三、在高效光引发剂存在下单体或预聚体发生聚合和交联而生成的高分子。

按应用技术不同分类可分为:一、成像体系,主要用于光加工工艺、非银盐照相、复制、信息记录和显示等方面;二、非图像体系,大量用于光固化涂层、印刷油墨、粘合剂和医用材料等方面。

用于光加工工艺的光敏高分子,通称光致抗蚀剂(又称光刻胶),大量用于印刷制版和电子工业的光刻技术中。它的工作原理是受光部分发生交联,生成难溶性的硬化膜,经加工成负像(负性胶);或者是原来的不溶性胶受光照后变为可溶性的,经加工得正像(正性胶)。

通常用的光致抗蚀剂有:一、聚肉桂酸酯型,例如聚乙烯醇肉桂酸酯,由聚乙烯醇和肉桂酰氯在吡啶溶剂中合成,配制的光刻胶称KPR。在紫外线作用下,

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